FA・フィルム製造加工設備、精密鋳造品

反射防止膜・防汚膜装置

独自設計のスパッタカソードと有機EL成膜装置開発で培った真空蒸着法を組み合わせ、反射防止層から防汚層の形成まで同一装置内で一貫成膜が可能で生産効率を最大限に高めることができる装置を提供します。

※反射防止膜（AR膜：Anti-Reflection）光の映り込みや反射防止を目的としたコーティング。
※防汚膜（AFP膜：Anti-Finger Print）指紋の付着防止、付着した指紋の拭き取りの容易化を目的としたコーティング。（一般的にはAR膜上にコーティング）

タッチパネルを搭載したディスプレイの最表面には、指紋や汚れがつきにくく、容易に拭き取れ、また頻繁に操作をしても、傷つきにくい特性が求められています。従来のウエットコーティング法ではこれらの性能を十分充たすことが困難でしたが、当社の真空蒸着法で形成する最表面（防汚層）は、高い摺動耐久性で防汚機能を長く保つことができます。また、ロール to ロールプロセスでは高い生産性を維持することもできます。

主なサービス・製品

Hitz AR膜例

Hitz AFP膜例

※成膜サンプルのご提供も可能です。下記のお問い合わせからご連絡をお願いします。

HARD-F シリーズ

特長

AR膜とAFP膜をフレキシブル基板に連続成膜する装置です。

スパッタと真空蒸着の異なる真空度のプロセスを差圧調整機構を設けることで、連続成膜が可能。
AR膜は、独自設計のロータリーカソードを採用することで、長時間運転かつ高出力成膜が可能。
AFP膜は、独自設計のノズル型リニアソースを採用することで、高材料利用効率で高膜厚均一性成膜が可能。
AFP膜は、独自設計のバルブ機構を採用することで、1）蒸着速度の安定性の維持、2）、非蒸着時の閉め切りが可能、3）蒸着中の材料交換が可能、4）液体材料の蒸着が可能。

製品名	HARD-F Series
型式	HF-300	HF-600	HF-1200	HF-1600	HF-2000
対応フィルム幅	300mm	600mm	1,200mm	1,600mm	2,000mm
フィルム送り速度	0.5m～20m/分
フィルム前処理	プラズマ洗浄
搭載スパッタ源	ロータリーカソード、デュアルカソード
搭載蒸発源	ノズル型リニアソース
スパッタ/蒸着間圧力制御	差圧制御式

また、装置前後にATV機構をつけることで、原反フィルムの交換の際に装置を止めることなく連続稼働が可能となり、生産性の向上に寄与します。

HARD-G シリーズ

特長

縦型回転ドラム式を採用し、ガラス基板やプラスチック基板にAR膜とAFP膜を真空一貫で成膜する装置です。

HARD-Fシリーズと共通技術のスパッタ源と蒸発源を搭載しています。
長尺基板や湾曲基板など多様な基板へ対応が可能。
幅広い波長領域の成膜に対応し、少量、多品種の柔軟な生産が可能。
オプションとして、ロードロック機構及び基板自動セットも搭載が可能。

製品名	HARD-G Series
型式	HG-800	HG-1400	HG-1800
最大基板長（mm）※	800	1,400	1,800
対応基材	フィルム、ガラス
ドラム回転速度	～100rpm
搭載スパッタ源	ロータリーカソード、デュアルカソード
搭載スパッタ源数	2～4源
後酸化ユニット	あり
搭載蒸着源	ノズル型リニアソース

※基板幅はドラム径の広径化で400mmまで対応可能。