有機材料や金属材料を蒸発させ成膜する装置です。蒸発源は抵抗加熱、EB、セルなどを使用し、基板回転機構や材料供給機構などお客様の用途に合わせ設計・製造します。

マグネトロンスパッタ、対向式スパッタ、イオンビームスパッタをご用意しております。社内には実験用のスパッタ装置を設置しています。

サンプル成膜対応可能

対向式スパッタ　　：　50×50　バッチ式
平行平板式スパッタ　：　300×300　or　100×100　バッチ式

真空装置・真空機器 サンプル成膜および開発用として、RtoR連続成膜装置を用意しています。

サンプル成膜対応可能

フィルム厚：50μｍ～200μｍ
フィルム材質：PET、PES、PI
搬送速度：0.5～10m/min
成膜：金属膜、透明電極膜、酸化膜